Cassification
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產(chǎn)品展示/ Product display
納米二氧化硅分散機是處理該材料的專用設(shè)備,通過高速剪切、研磨作用,打破納米二氧化硅團聚,實現(xiàn)均勻分散??删珳?zhǔn)調(diào)控參數(shù),確保分散粒徑穩(wěn)定,提升材料性能,適用于涂料、橡膠、電子等領(lǐng)域的生產(chǎn)與研發(fā)。
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納米二氧化硅分散機
于此過程中,物料受到離心擠壓、撞擊等初步分散,同時在高速轉(zhuǎn)子外端形成的高剪切力作用下,歷經(jīng)機械及液力剪切、液層摩擦、撞擊撕裂等多重強力作用,從而充分分散。部分設(shè)備還采用多層定轉(zhuǎn)子咬合結(jié)構(gòu),進(jìn)一步優(yōu)化分散效果,確保混合分散后的粒徑分布更窄。
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點:
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SID 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
納米二氧化硅分散機
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